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平面抛光机

平面抛光机

 详情说明
13B双面研磨机使用范围:
本机主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、玻璃、宝石、铌酸锂、砷化镓、陶瓷片等薄 脆金属或非金属的研磨或抛光。
13B双面研磨机工作原理:
本系列研磨 机为精密磨削设备,上、下研磨盘作 相反方向转动,工件在载体 内作既公转双自转的游星运动.磨削阻力小 不损伤工件,而且两面磨削均匀,生产效率高.
13B双面研磨机技术参数
研磨盘尺寸 920*330*40mm
最小研磨厚度:0.2mm
最大研磨厚度:35mm
游星轮片数量:5片
最大研磨直径:O290mm
下磨盘转速:0-60/rpm
过滤干燥汽源 : 0.4-0.6mpd
游轮参数:英制:Z=154 DP12
主电机:380V/7.5/1440rpm
下研磨盘跳动:≤0.05mm
修正轮修正平行度:≤0.005mm
水泵: 0.125KW
外形尺寸:1220*1720*2500mm
机器重量:3500KG
13B双面研磨机功能特点:
本机适用于光学玻璃、手机镜片、面积较大的 电容触摸屏,硅片陶瓷等硬脆材料
1.本机主体结 构采用一次成型工艺,合理的结构 大大提升整机刚性。
2.采用人机操作界面,直接通过触 摸屏设定各相关参数,液晶触摸屏 实时显示当前工作壮态及相关设定参数,系统提供500数据存储,菜单式操作方便快捷
3.通过人机界 面控制变频器驱动电机,起停设有缓冲延时,运行稳定冲击小,上下研磨盘 设有快升快降缓升缓降功能有效降低产品报废率。
4.采用斜齿搭 配设计优良的传动系统运行高效稳定,噪音小。
5.上磨盘自动找平,无需人为干预,有效解决错盘问题,上磨盘具备 自锁功能安全性能进一步提高
6采用独特的设计,中心齿轮直径减小,加工面积增大,速比可调游 轮可正反转,节省能耗的 同时生产效率大大提高
7太阳轮与内 齿圈同步升降,满足取放工 件及调整游轮啮合位置的要求。
8.采用集中润滑系统,对各相对运 动面进行充分润滑。
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